本装置は微小振動する微小試料の振動量をレーザーを用いた「光ヘテロダイン法」により計測します。
変位測定ユニットと組み合わせることにより静止状態から100MHz迄の微小変位量を直読することができます。
またアニメーションソフトにより試料の振動モードを３次元的にアニメーション表示して、試料の振動解析をすることができます。

本装置は光導波路パターニング用の描画装置で、Ｈｅ−Ｃｄレーザー（波長４４２ｎｍ）を光源として微細描画を行なう装置です。描画動作はコンピューターで制御しますので高い位置精度で描画することができます。
またＣＡＤの標準ファイルフォーマットであるＤＸＦファイルを描画用データとして採用していますので、そのデータをＣＡＤで簡単に製作することができます。

本装置は、光記録媒体材料の記録特性を静的に評価する装置で、半導体レーザー光源を顕微鏡光学系に組み合わせて材料の表面に微小なスポット光を照射することにより、光書き込みを行い、更にその書き込み部位の反射率変化を測定することができます。
また、レーザー光源をサンプル特性に適した波長のものに交換することにより生物・医学などさまざまな分野での研究にも応用可能です。

本装置は通産省工業技術院軽量研究所の指導により日本科学エンジニアリング（株）がレーザー管、よう素セル、制御回路に至るまで各要素技術を開発しました。また、1998年4月1日に同研究所において長さの特定標準器として採用されました。

このシリーズはレーザー専門メーカーとしての長年の技術蓄積と多くの納入実績に裏付けされたもので、磁性体の面内並びに垂直に磁化された媒体を評価するものです。
印加磁場も低磁場から高磁場まで各種揃えており、先端技術の急速な進歩に合わせ、お客様の要求に応じ、特別仕様品等幅広く製作しております。